Хімія, фізика та технологія поверхні is a peer-reviewed english-language open-access journal published by Chuiko Institute of Surface Chemistry of NAS of Ukraine in Ukraine, operating under an open-access model since 2010. The journal covers Chemistry and Physics.
Authors publish in Хімія, фізика та технологія поверхні without paying any article processing charge (APC) — making it a fully diamond/platinum open-access venue, supported entirely by its publisher or sponsor. Articles are released under the CC BY license (see other journals using this license).
Keywords
chemistry, physics, surface, physicochemical, surface phenomena, technology of surface
At a glance
ISSN
- 2079-1704
- electronic
- 2518-1238
Manuscript languages
Frequently asked questions
Is Хімія, фізика та технологія поверхні peer-reviewed?
Yes — Хімія, фізика та технологія поверхні operates a Anonymous peer review review process.
Does Хімія, фізика та технологія поверхні charge an article processing charge (APC)?
No. Хімія, фізика та технологія поверхні does not charge any APC. Publication is free for accepted authors.
What subjects does Хімія, фізика та технологія поверхні publish?
Хімія, фізика та технологія поверхні publishes research in Chemistry and Physics.
What languages does Хімія, фізика та технологія поверхні accept?
Хімія, фізика та технологія поверхні accepts manuscripts in English and Ukrainian.
What is the ISSN of Хімія, фізика та технологія поверхні?
ISSN:
2079-1704 (print) · 2518-1238 (electronic).How do I submit a manuscript to Хімія, фізика та технологія поверхні?
Submit through the journal's official portal: visit submission page →